硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。

半导体行业 CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是可以在整个硅圆晶片上平坦化的工艺技术。

地坪抛光液用处十分广泛，可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等为根底外表抛光，它的特色便是进入地坪，在枯燥的进程中和混凝土粘结在一起，枯燥后经过物理抛光，能赋予地坪超亮的光泽的一起，还能进步外表的防水、防尘、抗污保洁和抗磨性能。经过上面的介绍，咱们在施工硬化地坪时，十分有必要用地坪抛光液进行抛光，由于地坪抛光液不单单仅仅进步地坪的光泽度，还能进步地上抗渗、防尘、抗污保洁的功用，让地坪更有质感的一起，也能更好的对地上进行维护。可以说硬化地坪运用抛光液进行抛光并非弄巧成拙而是如虎添翼，让硬化地坪的作用更上一层楼！

至于封釉的频率，与车子的使用率和空气环境、洗车次数有直接的关系。一般的车封完釉保养得好的话一年左右就要再封第二次。以杭州的天气来讲，封釉间隔大约是3到4个月。 别看只是清洗，却很有讲究。清洗剂要使用中性的，因为碱性的清洁剂会腐蚀车漆，如果残存在车体缝隙中，腐蚀性就更大了，建议您使用中性洗车剂，避免伤害车漆。